離子濺射儀用于在SEM中涂覆非導電樣品，使樣品具有良好的導電性并避免充電效應，從而看到更好的電子顯微鏡效果。金噴涂儀的原理是離子濺射。離子濺射金噴涂儀可用于大多數樣品，特別是熱敏生物樣品，而碳鍍儀用于熱蒸發。由于涂覆過程會產生高溫，因此不適合涂覆熱敏樣品。
離子濺射儀的應用領域：
1、在光學領域：中頻閉場非平衡磁控濺射技術也應用于光學膜(如抗反射膜)、低輻射玻璃和透明導電玻璃。
2、在裝飾領域的應用，如各種全反射膜和半透明膜，如手機外殼、鼠標等。
3、作為一種非熱涂層技術，應用于微電子領域。各種功能薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能的薄膜。例如，在低溫下沉積氮化硅抗反射膜以提高太陽能電池的光電轉換效率。
4、化學氣相沉積(CVD)難以生長，不適合材料膜沉積，并且可以獲得大面積的非常均勻的膜。
5、在高溫超導薄膜、鐵電薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發光材料、太陽能電池和記憶合金薄膜的研究中發揮著重要作用。
6、在機械加工行業，表面功能膜、超硬膜和自潤滑膜的表面沉積技術自誕生以來取得了長足的進步，可以有效提高表面硬度、復合韌性、耐磨性和高溫化學穩定性，從而大大提高涂層產品的使用壽命。
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