小型真空鍍膜機是我公司專為科研院所及實驗室用戶群體設計開發的一款小型高真空蒸發鍍膜系統。采用大抽速分子泵準無油高真空系統，機架電控一體化設計，整體布局緊湊合理，充分考慮人機工程學的傾斜操控面板和可直觀觀察蒸發狀態的玻璃真空室結構相得益彰。兩組/三組蒸發源可兼容金屬、有機物蒸發。廣泛應用于高校、科研院所教學、制備功能薄膜、蒸鍍電極、掃描電鏡制樣等，特別適合太陽能電池、有機EL、LED顯示管研究與開發領域。
小型真空鍍膜機主要特點/優勢：
★ 玻璃鐘罩真空腔室，最直觀的蒸發狀態和薄膜沉積現象觀察；
★ 復合分子泵和直聯旋片泵，大抽速準無油真空系統(分子泵抽速≥400L/S)；
★ 兩組水冷式蒸發電極，可長時間穩定工作，兼容金屬材料與有機材料的蒸發源設計；
★ 專業真空蒸發電源，數顯工作電流和電壓，恒流輸出；
★ 可鍍110mm方形基片或15～25mm ITO/FTO玻璃25片，可定制一體化高精度刻蝕掩膜板；
★ 襯底可選擇加熱或水冷，源基距≥300mm；
★ 良好的薄膜均勻性和重復性，可在線監測和控制蒸發速率、膜厚；
★ 可沉積金屬(Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等)、非金屬、化合物(MoO3, LiF等)及有機物材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜；
★ 設備集成度高，結構緊湊，占地面積小(0.92平米)；設備配腳輪，方便移動和定位。
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